顯微鏡特點

• 光學性能優異：基于徠卡研究型顯微鏡系列相同的光學平臺，能提供清晰、高質量的圖像，無應力物鏡和聚光鏡確保樣品成為影響偏光因素，有助于準確觀察納米線半導體的光學特性。

• 多種照明模式： LED 反射光照明，提供明場、偏振光和傾斜光照明模式。通過不同的照明模式，可以突出納米線半導體的不同特征，例如偏振光模式可用于研究納米線的晶體結構和光學各向異性。

• 高放大倍數：擁有 4 孔或 5 孔物鏡轉盤的機座，可裝備全系列的物鏡組，放大倍數從 50 倍到 1000 倍，能夠滿足從低倍到高倍觀察納米線半導體的需求，便于觀察納米線的整體形態和細微結構。

• 載物臺適配性好：機械載物臺可同時適配透射光和反射光應用，能裝配多種樣品夾來固定不同直徑尺寸的試樣，方便對納米線半導體樣品進行操作和觀察。

觀察前準備

• 樣品制備：首先需要將納米線半導體樣品固定在合適的載玻片或樣品臺上。如果納米線是生長在襯底上，如通過金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）或分子束外延（MBE）等方法在 GaAs 或 Si 襯底上生長的 InGaAs - AlGaAs 納米線，可直接將襯底固定在樣品臺上。如果納米線是粉末或懸浮液形式，則需要將其均勻分散在載玻片上，并進行適當的固定和干燥處理，以防止在觀察過程中納米線移動。

• 選擇物鏡：根據納米線的尺寸和觀察要求，選擇合適倍數的物鏡。對于較粗的納米線或需要觀察整體分布的情況，可先使用低倍物鏡（如 50 倍或 100 倍）進行初步觀察；對于需要觀察納米線細節結構，如納米線的表面形貌、內部結構等，則需要使用高倍物鏡（如 500 倍或 1000 倍）。

• 校準顯微鏡：在觀察前，需要對顯微鏡進行校準，包括光路校準、光源校準和物鏡校準等。確保顯微鏡的光路系統正常，光源亮度均勻且強度適中，物鏡的焦距和放大倍數準確無誤。

觀察步驟

1. 放置樣品：將制備好的納米線半導體樣品放在載物臺上，使用樣品夾固定好，然后通過載物臺的移動旋鈕，將樣品移動到視野中心位置。

2. 選擇照明模式：根據樣品的特性和觀察目的，選擇合適的照明模式。例如，對于具有晶體結構的納米線半導體，可選擇偏振光模式，以觀察其晶體的光學性質；對于需要觀察表面形貌的納米線，可選擇明場或傾斜光模式，以突出表面的細節特征。

3. 調節焦距：通過旋轉粗調焦旋鈕和微調焦旋鈕，使納米線半導體樣品的圖像清晰聚焦。在調節焦距時，要注意從低倍物鏡開始，逐漸轉換到高倍物鏡，每次轉換物鏡后都需要重新微調焦距。

4. 觀察與記錄：仔細觀察納米線的形態、尺寸、分布等特征，并記錄下來。同時，注意觀察納米線在不同照明條件下的光學表現，如顏色、亮度、對比度等。如果顯微鏡配備了圖像采集系統，可以拍攝照片或錄制視頻，以便后續進一步分析。

5. 分析與研究：根據觀察到的納米線半導體的特征和光學表現，結合相關的材料科學知識和技術，對納米線的結構、性質和生長機制等進行分析和研究。例如，通過觀察納米線的直徑分布，可以了解其生長的均勻性；通過觀察納米線的晶體結構，可以推斷其生長方向和生長條件等。