C-33型 國產雙面光刻機 精密光刻設備主要用途：

C-33型光刻機被廣泛應用于中小規模集成電路、半導體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產。它的高級找平機構使其適用于各種材料的曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等。

雙面對準單面曝光：這臺機器具備雙面對準單面曝光功能，可以在一個工藝中對準并曝光兩側，提高了生產效率。

普通光刻機工作：除了雙面對準單面曝光，它還可以執行普通光刻機的各種工作任務。

雙面對準精度檢查：此外，它還充當了一個檢查雙面對準精度的檢查儀，確保產品的高質量和精確度。

C-33型 國產雙面光刻機 精密光刻設備主要性能指標：

高均勻性LED曝光頭：

光強：不超過20毫瓦

曝光面積：100毫米×100毫米

曝光不均勻性：不超過3%

曝光強度：可調至不低于30毫瓦/平方厘米

紫外光束角度：不超過3度

紫外光中心波長：365納米、404納米、435納米可選擇

紫外光源壽命：不低于2萬小時

電子快門精準控制

對準精度：1微米

曝光精度：1微米

套刻精度：1微米

觀察系統：

采用上下各兩個單筒顯微鏡，每個上裝有四個CCD攝像頭，通過視屏線連接到計算機和液晶顯示屏。

單筒顯微鏡可連續變倍，范圍從0.7倍至4.5倍。

CCD攝像機靶面對角線尺寸：1/3英寸，6毫米。

使用19英寸液晶監視器，數字放大倍率最高可達57倍。

觀察系統的放大倍數范圍：最小40倍，最大256倍，或者介于91倍至570倍之間。

右側板上設有一個視屏轉換開關，向左為下面兩個CCD，向右為上面兩個CCD。

計算機硬件和軟件系統：

鼠標單擊“開始對準"按鈕，可以將監視屏上的圖形記錄下來，并將其處理為透明的，以便對新進圖形進行對準。

鼠標雙擊左側或右側的圖形，可以分別在整個屏幕上顯示左側或右側的圖形。

特殊的板架裝置：

該裝置可以裝入152×152的板架，并對版進行真空吸附。

裝置安裝在機座上，能夠圍繞點A進行翻轉運動，相對于承片臺進行上下翻轉運動，以便對上下版和上下片進行操作。

該裝置可以反復翻轉，回到承片臺上的平面位置，重復精度不超過±1.5微米。

此裝置具有補償基片楔形誤差的功能，確保上下版平面與上下片平面緊密接觸，提高曝光質量。

承片臺調整裝置：

配備Φ75和Φ100兩種承片臺，每個承片臺都有兩個長方形孔，下面的兩個CCD可以通過這些孔觀察到板或片的下平面。

承片臺可以進行X、Y、Z和θ運動，X、Y、Z的運動范圍為正負5毫米，θ運動范圍為正負5度。

承片臺密著環可以實現“真空密著"，真空密著力可調，分為硬接觸、軟接觸和微力接觸。